氣相沉積爐設(shè)備特點是什么　　氣相沉積爐適用于化學(xué)氣相沉積法制備碳-碳復(fù)合材料，也可用于以碳?xì)錃怏w（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理，或以三氯甲硅烷（MTS）為氣源的材材料料表面抗氧化涂層、基體改性等。　　裝料方式有上裝料、底裝料、臥式三種裝料方式。該氣相沉積爐設(shè)備特點如下：　　1.多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；　　2.采用先進(jìn)的控制技術(shù)，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動范圍??；　　3.氣相沉積爐設(shè)備自動化高，關(guān)鍵執(zhí)行電氣件采用進(jìn)口；操作直觀、簡便，觸摸屏經(jīng)過開發(fā)，可動態(tài)顯示爐子運(yùn)行狀況并具有自我診斷功能，程序段可直接輸入?！　?.采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)。

　　真空燒結(jié)爐具備多功能性嗎 　　真空燒結(jié)爐主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護(hù)條件下的感應(yīng)熔煉及快冷甩帶成型;適合各種材料的非晶、微晶薄帶或薄片的制備。 　　實驗型采用冷滾旋淬法制備薄片或薄帶非晶材料。采用噴鑄法制備塊狀或棒狀合金試樣，可用于制備大塊非晶材料。真空燒結(jié)爐主要由真空腔體、熔煉裝置、噴鑄裝置、甩帶裝置、抽真空系統(tǒng)、爐體支架、電氣控制系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)等組成。 　　真空燒結(jié)爐采用臥式爐體，側(cè)部開門結(jié)構(gòu)，進(jìn)出料方便，爐體結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間較小，采用高頻電源加熱，主要供大專院校及科研單位等在真空或保護(hù)氣氛條件下對金屬材料(如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉澆鑄處理，也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。還可進(jìn)行非晶甩帶，噴鑄和壓鑄處理，一臺設(shè)備多種功能。 　　此外，真空燒結(jié)爐是在抽完真空并充氫氣的保護(hù)狀態(tài)下，利用中頻感應(yīng)的加熱原理，使處于線圈內(nèi)的鎢坩堝產(chǎn)生了高溫，再通過熱輻射傳導(dǎo)到工作上，適用于科研、及軍工單位對難熔合金如鎢、鉬以及其它合金的粉末成型燒結(jié)。在真空保護(hù)的條件下，利用中頻感應(yīng)加熱的原理使硬質(zhì)合金刀頭及各種金屬粉末壓制體實現(xiàn)燒結(jié)的成套設(shè)備，是為硬質(zhì)合金、金屬鏑、陶瓷材料的工業(yè)行業(yè)而生產(chǎn)設(shè)計的。